光锥耦合对ICCD响应不均匀性的影响分析

• 作者: 崔志刚 白廷柱 金伟其 高稚允
• 来源期刊: 北京理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 增强CCD 光锥耦合 不均匀性 产生机理
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 光学与电子工程
• 页码范围: 354-357
• 页数: 4页
• 分类号: TN911.73
• 字数: 2262字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0645.2007.04.017

摘要

为提高光锥耦合ICCD成像系统的光响应均匀性,对光锥耦合过程造成光响应不均匀性的机理进行了分析,并用微观图解的方法清晰剖析不均匀性的产生机理. 从CCD光敏元、光锥纤维、像增强器光纤面板输出面的微观结构出发,通过实测图像合成,模拟再现了不均匀性的产生过程,分析了其主要因素,阐明了不均匀度的严重性,提出了通过减小光锥光纤直径改善ICCD的响应不均匀性的解决方案.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金伟其	北京理工大学信息科学技术学院光电工程系	310	4324	34.0	50.0
2	高稚允	北京理工大学信息科学技术学院光电工程系	57	922	17.0	28.0
3	白廷柱	北京理工大学信息科学技术学院光电工程系	94	750	13.0	23.0
4	崔志刚	北京理工大学信息科学技术学院光电工程系	8	47	4.0	6.0