GMR硬盘磁头自由磨粒抛光极尖沉降的研究

• 作者: 申儒林
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 磁头 磨粒 抛光 极尖沉降
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 27-29
• 页数: 3页
• 分类号: TH16
• 字数: 1809字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2007.04.008

摘要

磁头表面极尖沉降(PTR)是影响硬盘存储密度的关键因素之一.采用修正环形浮动块研磨抛光机和自由磨粒抛光方式抛光GMR硬盘磁头,并用原子力显微镜测试磁头的PTR,抛光试验表明:PTR与抛光盘表面形貌参数、磨粒大小、抛光压力和抛光盘转速有关.抛光盘表面取合适的形貌参数可以获得小的PTR;磨粒越小,PTR越小;抛光压力越大,PTR越小;抛光盘转速越小,PTR越小.研究结果有助于优化抛光工艺,在获得最佳PTR的同时,兼顾效率与成本的因素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	申儒林	中南大学机电工程学院	26	101	6.0	8.0