钛钼氧化物负载硅钨酸盐聚苯胺膜修饰电极制备及对抗坏血酸的电催化

• 作者: 余新武 张海丽 柳华春 闫红云
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 硅钨酸盐 苯胺 抗坏血酸 电催化
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 211-215
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 3903字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2007.02.011

摘要

用循环伏安法研究了金属氧化物(TiO2-MoO3)负载硅钨酸盐聚苯胺膜电极的制备,优化了聚合条件,并对该化学修饰电极的电化学行为,包括溶液的pH的影响等进行了研究,同时研究了抗坏血酸在此修饰电极上的电化学行为.该修饰膜对抗坏血酸有良好的电催化氧化作用.用计时电流法及伏安法研究了抗坏血酸在此修饰电极上的电化学行为,计算出抗坏血酸在修饰电极膜内的表观扩散系数为1.88×10-7cm2/s;抗坏血酸浓度在5.0×10-5～6.9×10-3mol/L范围内呈线性关系,相关系数为0.9961,检出限为1.2×10-6mol/L.可用于测定西红柿、橙汁中的抗坏血酸,结果令人满意.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余新武	湖北师范学院湖北省生化分析技术重点实验室	93	612	11.0	20.0
2	张海丽	湖北师范学院湖北省生化分析技术重点实验室	36	175	6.0	11.0
3	柳华春	湖北师范学院湖北省生化分析技术重点实验室	2	12	2.0	2.0
7	闫红云	湖北师范学院湖北省生化分析技术重点实验室	1	9	1.0	1.0