直流磁控溅射Ni49.54Mn29.59Ga20.87磁驱动记忆合金薄膜的XPS研究

• 作者: 刘超 安旭 蔡伟 赵连城 高智勇 高来勖
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Mn-Ga 磁驱动形状记忆合金 薄膜 溅射
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 50-52
• 页数: 3页
• 分类号: TG111.92
• 字数: 2293字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2007.01.016

摘要

采用直流磁控溅射技术沉积了Ni49.54Mn29.59Ga20.87磁驱动形状记忆合金薄膜.XRD结果表明,Ni49.54Mn29.59Ga20.87薄膜室温下为5层调制型结构马氏体.X射线光电子能谱(XPS)分析表明,放置于空气中2个月的沉积态薄膜表面吸附少量氧和碳杂质.随Ar+刻蚀深度的增加,表面C杂质易被剥蚀掉,而部分氧杂质以MnO状态存在;Ni、Mn、Ga元素含量由薄膜表面向内层逐渐增加,化学价由正价向零价转变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵连城	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	107	1153	16.0	29.0
2	蔡伟	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	73	482	13.0	17.0
3	高智勇	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	16	95	5.0	9.0
4	刘超	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	32	183	8.0	12.0
5	高来勖	黑龙江大学电子工程黑龙江省高校重点实验室	9	36	4.0	6.0
6	安旭	黑龙江大学电子工程黑龙江省高校重点实验室	5	18	3.0	4.0