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一维掺杂光子晶体缺陷模的全貌特征
一维掺杂光子晶体缺陷模的全貌特征
作者:
刘启能
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
掺杂光子晶体
缺陷模
特征矩阵
全貌特征
摘要:
通过一维掺杂光子晶体缺陷模的三个不同角度的立体图以及它们对应的俯视切面图,全面地研究了缺陷模随杂质光学厚度、杂质折射率以及光子晶体折射率的变化关系,得出了一维掺杂光子晶体缺陷模的全貌特征,并得到以下重要结论:缺陷模透射峰随杂质光学厚度变化呈周期性的出现,在同一周期上缺陷模的波长随杂质光学厚度呈线性变化;缺陷模透射峰的半高宽度随杂质折射率的增加而减小,但陷模透射峰的高度不受杂质折射率变化的影响;光子晶体的折射率对缺陷模透射峰的峰高和半高宽度都有显著的影响.
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文献信息
篇名
一维掺杂光子晶体缺陷模的全貌特征
来源期刊
半导体光电
学科
物理学
关键词
掺杂光子晶体
缺陷模
特征矩阵
全貌特征
年,卷(期)
2007,(2)
所属期刊栏目
材料、结构及工艺
研究方向
页码范围
224-227
页数
4页
分类号
O436
字数
2320字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-5868.2007.02.019
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘启能
重庆工商大学理学院
169
1028
19.0
24.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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缺陷模
特征矩阵
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
半导体光电
主办单位:
重庆光电技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-5868
CN:
50-1092/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市南坪花园路14号44所内
邮发代号:
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
总被引数(次)
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