氮化硅陶瓷的ELID高速磨削工艺试验研究

• 作者: 宓海青 尚振涛 盛晓敏 黄含
• 来源期刊: 湖南大学学报（自然科学版）
• 关键词: 高速磨削 氮化硅陶瓷 ELID磨削 非ELID磨削
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 机电工程
• 页码范围: 30-34
• 页数: 5页
• 分类号: TG743
• 语种: 中文

摘要

在采用封闭式阴极装置实现高速ELID磨削的基础上.对氮化硅陶瓷的ELID高速磨削工艺机理进行了研究.通过与非ELID高速磨削工艺的对比,揭示了氮化硅陶瓷ELID高速磨削的工艺机理,并给出了其表面粗糙度、磨削力与工艺参数之间的变化规律.这些规律表明:ELID高速磨削工艺能大大地减小氮化硅陶瓷的表面粗糙度值及磨削力.获得较好的表面质量.此外,砂轮线速度和磨削深度对其表面粗糙度值没有显著影响,且变化没有明显规律;而工件速度对表面粗糙度值存在一定的影响,表面粗糙度值随着工件进给速度的提高而增加,即表面加工质量有下降的趋势;ELID高速磨削工艺中的各类磨削参数均对氮化硅陶瓷的磨削力产生重大影响:磨削深度增加或工件速度的加快,都使磨削力变大;砂轮线速度的增加则导致磨削力下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	尚振涛	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	23	214	8.0	14.0
2	黄含	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	3	71	3.0	3.0
3	盛晓敏	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	49	811	16.0	27.0
4	宓海青	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	28	669	14.0	25.0