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摘要:
介绍了新思科技(Synopsys Inc.)最新推出的新一代nm级IC制程工艺设计工具--SenTaurus Process的基本功能及其仿真领域,详细阐述了SenTaurus Process功能的拓展.对SenTaurus Process增加的模型库浏览器(PDB)、一维模拟结果输出(Inspect)及二、三维模拟结果输出(Tecplot SV)工具进行了介绍.重点介绍了SenTaurus Process所嵌入的诸多小尺寸模型.
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文献信息
篇名 新一代nm级集成工艺仿真工具——SenTaurus Process
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 集成电路 纳米层次 工艺仿真 可制造性设计
年,卷(期) 2007,(5) 所属期刊栏目 纳米器件与技术
研究方向 页码范围 231-234,245
页数 5页 分类号 TN402
字数 4177字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2007.05.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李惠军 山东大学孟堯微电子研发中心 51 103 5.0 7.0
2 侯志刚 山东大学孟堯微电子研发中心 10 55 5.0 7.0
3 于英霞 山东大学孟堯微电子研发中心 4 21 2.0 4.0
4 张宪敏 山东大学孟堯微电子研发中心 4 21 2.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路
纳米层次
工艺仿真
可制造性设计
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
月刊
1671-4776
13-1314/TN
大16开
石家庄市179信箱46分箱
18-60
1964
chi
出版文献量(篇)
3266
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22
总被引数(次)
16974
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