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新一代nm级集成工艺仿真工具——SenTaurus Process
新一代nm级集成工艺仿真工具——SenTaurus Process
作者:
于英霞
侯志刚
张宪敏
李惠军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
集成电路
纳米层次
工艺仿真
可制造性设计
摘要:
介绍了新思科技(Synopsys Inc.)最新推出的新一代nm级IC制程工艺设计工具--SenTaurus Process的基本功能及其仿真领域,详细阐述了SenTaurus Process功能的拓展.对SenTaurus Process增加的模型库浏览器(PDB)、一维模拟结果输出(Inspect)及二、三维模拟结果输出(Tecplot SV)工具进行了介绍.重点介绍了SenTaurus Process所嵌入的诸多小尺寸模型.
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内容分析
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相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
新一代nm级集成工艺仿真工具——SenTaurus Process
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
集成电路
纳米层次
工艺仿真
可制造性设计
年,卷(期)
2007,(5)
所属期刊栏目
纳米器件与技术
研究方向
页码范围
231-234,245
页数
5页
分类号
TN402
字数
4177字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-4776.2007.05.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李惠军
山东大学孟堯微电子研发中心
51
103
5.0
7.0
2
侯志刚
山东大学孟堯微电子研发中心
10
55
5.0
7.0
3
于英霞
山东大学孟堯微电子研发中心
4
21
2.0
4.0
4
张宪敏
山东大学孟堯微电子研发中心
4
21
2.0
4.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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参考文献(1)
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2007(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2008(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2010(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2012(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
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引证文献(2)
二级引证文献(0)
2017(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2019(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
集成电路
纳米层次
工艺仿真
可制造性设计
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
总被引数(次)
16974
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