超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响

• 作者: 张飞虎 栾殿荣 王慧军 赵航 陈亚春
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 材料去除率 超声波磁流变复合抛光 超声波抛光 磁流变抛光 超精密加工
• 年，卷（期）: 2007,（10）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 1583-1588
• 页数: 6页
• 分类号: TQ171.684|TH161
• 字数: 3499字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924x.2007.10.021

摘要

提出了一种光学抛光的新方法--超声波磁流变复合抛光.介绍了该抛光方法的基本原理和实验装置,进行了超声波磁流变复合抛光实验,采用轮廓仪实测了光学玻璃超声波磁流变抛光材料去除轮廓曲线.通过该项工艺实验,研究了五种工艺参数(磁场强度、超声振幅、抛光工具头与工件的间隙、抛光工具头转速、工件转速)对光学玻璃材料去除率的影响.在一定实验条件下,获得的材料去除率为0.139μm/min,并获得了超声波磁流变复合抛光工艺参数与材料去除率的关系曲线,得出了光学玻璃超声波磁流变复合抛光的材料去除规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张飞虎	哈尔滨工业大学机电工程学院	132	2251	25.0	41.0
2	栾殿荣	哈尔滨工业大学机电工程学院	16	274	10.0	16.0
3	赵航	哈尔滨工业大学机电工程学院	23	174	8.0	12.0
4	王慧军	哈尔滨工业大学机电工程学院	1	24	1.0	1.0
5	陈亚春	哈尔滨工业大学机电工程学院	1	24	1.0	1.0