纳米级BiCMOS双极架构的可制造性设计

• 作者: 侯志刚 刘岩 李惠军
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 双极性器件 工艺级设计 可制造性设计
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 纳米器件与技术
• 页码范围: 11-14,42
• 页数: 5页
• 分类号: TN433
• 字数: 3084字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2007.01.003

摘要

基于对小尺寸双极性器件特性的理论分析,对合理实现BiCMOS的架构模式进行了深入研究,完成了TSUPREM-Ⅳ与MEDICI接口的TCAD可制造性设计流程,实现了BiCMOS环境下集成化小尺寸器件管芯制程的全流程虚拟制造.器件基区宽度小于100 nm,器件特性理想.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李惠军	山东大学孟堯微电子研发中心	51	103	5.0	7.0
2	刘岩	山东大学孟堯微电子研发中心	12	73	3.0	8.0
3	侯志刚	山东大学孟堯微电子研发中心	10	55	5.0	7.0