PVA固结磨具研磨硬磁盘基片的接触压强分布

• 作者: 冯连东 吕玉山 孙军 王军 王志友
• 来源期刊: 沈阳建筑大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 研磨 硬磁盘基片 接触压强分布 平面度误差
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 机械工程
• 页码范围: 1016-1020
• 页数: 5页
• 分类号: TN305|TH161
• 字数: 3811字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1922.2007.06.031

摘要

目的 为了获得铝质硬磁盘基片研磨过程中的接触压强分布对基片平面度的影响规律.方法 建立了铝质硬磁盘基片使用PVA固结模料磨具研磨过程的接触力学模型和边界条件.利用有限元的方法对接触压强分布进行了计算和分析,并利用研磨实验对计算获得结果进行了验证.结果 获得了研磨过程的磁盘基片与PVA磨具间的接触表面压强分布形态,以及PVA固结磨具的几何和物理参数对压强分布的影响规律,确定了接触压强分布形态是产生磁盘基片平面度误差的重要因素之一.结论 接触压强的分布是不均匀,在基片的内径和外径邻域内接触压强增大,导致材料去除率增大,使被加工基片产生平面度误差.选择合理地PVA磨块弹性模量与较小的PVA磨块厚度,可以接触表面压强场分布趋向均匀,从而改善磁盘有效区域的平面度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙军	沈阳建筑大学交通与机械工程学院	97	436	11.0	14.0
2	王军	沈阳建筑大学交通与机械工程学院	100	547	12.0	17.0
3	吕玉山	沈阳建筑大学交通与机械工程学院	9	18	3.0	3.0
4	王志友	沈阳建筑大学交通与机械工程学院	5	13	2.0	3.0
5	冯连东		2	6	1.0	2.0