退火对Fe/Si结构原子间互扩散及显微结构的影响

• 作者: 余平 张勇 张晋敏 曾武贤 梁艳 田华 谢泉
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 退火 RBS 互扩散 显微结构
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1888-1894
• 页数: 7页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 574字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.12.008

摘要

在Si(100)衬底上,用直流磁控溅射沉积约100nm的纯金属Fe膜,然后在600～1000℃真空退火2h.用能量为3MeV的C离子进行了卢瑟福背散射(RBS)测量,并用SIMNRA 6.0程序分析了测量结果,给出了界面附近Fe原子与Si原子间互扩散的完整图像.扫描电镜(SEM)观察和X射线衍射(XRD)测量表征了不同温度退火2h后Fe/Si系统表面的显微结构和晶体结构.由RBS、XRD测量与SEM观察结果,分析了退火过程对磁控溅射制备的Fe/Si双层膜结构原子间的互扩散行为、硅化物形成及显微结构的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张勇	贵州大学电子科学与信息技术学院	100	332	8.0	15.0
2	谢泉	贵州大学电子科学与信息技术学院	133	486	12.0	17.0
3	张晋敏	贵州大学电子科学与信息技术学院	47	261	7.0	15.0
4	余平	贵州大学电子科学与信息技术学院	10	145	3.0	10.0
5	梁艳	贵州大学电子科学与信息技术学院	6	47	4.0	6.0
6	曾武贤	贵州大学电子科学与信息技术学院	6	47	4.0	6.0
7	田华	贵州大学电子科学与信息技术学院	11	75	4.0	8.0