SU-8胶深紫外光刻模拟

• 作者: 冯明 周再发 朱真 李伟华 黄庆安
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: SU-8胶 光刻模拟 显影轮廓
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1465-1470
• 页数: 6页
• 分类号: TN012
• 字数: 5510字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.09.027

摘要

综合了SU-8胶光刻过程中衍射、反射、折射、吸收率随光刻胶深度的变化及交联显影等各种效应,考虑了折射及吸收系数随时间的变化,建立了SU-8化学放大胶的光刻模型.模拟结果显示,该模型比现有的模拟方法结果更精确,与实验结果符合较好,可以在实际应用中对SU-8光刻胶的二维模拟结果进行有效预测.