Ag层的厚度对ZnO/Ag/ZnO多层膜性能的影响

• 作者: 孙学卿 李俊 李科伟 杨春秀 闫金良
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 多层膜 结构 光电性质
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1402-1405
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2601字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.09.014

摘要

采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag夹层的ZnO(60nm)/Ag/ZnO(60nm)多层膜.分别用X射线衍射仪、紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的结构、光学性质、电学性质进行了研究.结果表明:随着Ag层厚度的增加,ZnO/Ag/ZnO多层膜呈现多晶结构,Ag(111)衍射峰的强度增强.Ag夹层厚度为11nm时,ZnO(60nm)/Ag/ZnO(60nm)膜在554nm处的透过率高达92.3%.随着Ag层厚度的增加,Ag膜的特征吸收峰呈现红移和宽化,ZnO/Ag/ZnO多层膜的面电阻先减小后趋于稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李俊	鲁东大学物理与电子工程学院	6	46	4.0	6.0
2	闫金良	鲁东大学物理与电子工程学院	25	100	5.0	8.0
3	孙学卿	鲁东大学物理与电子工程学院	6	39	4.0	6.0
4	李科伟	鲁东大学物理与电子工程学院	4	39	3.0	4.0
5	杨春秀	鲁东大学物理与电子工程学院	5	40	3.0	5.0