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摘要:
提出并制作了一种全新的平面分离双栅金属氧化物半导体场效应晶体管,该器件垂直于沟道方向的电场为一非均匀场.理论计算、TCAD三维器件仿真以及实验结果均表明,通过改变该器件中任何一个栅极偏置电压,能够得到可以调节的输出特性(增益系数)及转移特性曲线,可以很方便地调节器件的阈值电压及亚阈值摆幅并具备低功耗特点.这为电路的设计及器件制作提供了更多的灵活性,既可以简化电路的设计又可以降低MOS集成电路制造工艺的复杂程度.平面分离双栅金属氧化物半导体场效应晶体管制作工艺与目前常规的CMOS工艺完全兼容.
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文献信息
篇名 平面分离双栅金属氧化物半导体场效应晶体管的设计与制作
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 新颖器件 场效应晶体管 平面分离双栅 亚阈值摆幅可调
年,卷(期) 2007,(6) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 923-930
页数 8页 分类号 TN386
字数 5020字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.06.021
五维指标
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研究主题发展历程
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新颖器件
场效应晶体管
平面分离双栅
亚阈值摆幅可调
研究起点
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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