激光辐照下GaAs表面腐蚀液滴自然浸润过程及其边缘刻蚀特性

• 作者: 刘霖 叶玉堂 王昱琳 田骁 罗颖 陈镇龙
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 工学
• 关键词: GaAs 浸润 刻蚀 边缘特性
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 激光应用与系统
• 页码范围: 58-59
• 页数: 2页
• 分类号: TN249
• 字数: 1490字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2007.04.028

摘要

研究了激光辐照下GaAs表面酸性腐蚀液滴的浸润及其腐蚀特性,实验获得了激光辐照下H2SO4-H2O2液滴在GaAs表面的浸润过程以及液滴边缘方位、晶体取向等差异对GaAs半导体表面刻蚀效果的影响,得到了有价值的结论.实验结果表明,腐蚀液液滴在GaAs表面随着时间向外扩散,腐蚀现象由中心向四周逐渐减弱,并在边缘部分出现不完全腐蚀现象;通过对同一液滴的不同位置的边缘进行观察发现液滴边缘的腐蚀图样不完全相同,由于晶体的各向异性使腐蚀图样具有明显的方向性,此结论对半导体器件的加工工艺起着重要的理论补充作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶玉堂	电子科技大学光电信息学院	170	1471	17.0	30.0
2	陈镇龙	电子科技大学光电信息学院	32	236	7.0	14.0
3	刘霖	电子科技大学光电信息学院	73	411	11.0	16.0
4	王昱琳	电子科技大学光电信息学院	25	115	6.0	9.0
5	罗颖	电子科技大学光电信息学院	20	80	5.0	7.0
6	田骁	电子科技大学光电信息学院	7	24	3.0	4.0