Co-B纳米合金功能膜化学沉积和电沉积的比较

• 作者: 何晶 廖树帜 张淳 张邦维 蒋登辉
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 电沉积 化学沉积 纳米钴硼合金 非晶态 沉积速率
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 表面与界面工程
• 页码范围: 2300-2305
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1|TQ153.2|TG146.1+6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-1157.2007.09.025

摘要

以硫酸钴、硼氢化钠为主要原料,对电沉积和化学沉积Co-B纳米合金功能膜进行比较,发现尽管电沉积较化学沉积的速度快,但各影响因素和变化规律是一致的.pH值增大和温度的升高会加快沉积速率,络合剂浓度增大则会降低沉积速率,增加硫酸钴、硼氢化钠的浓度都会加快沉积速率,但用化学法沉积时,当硫酸钴、硼氢化钠的浓度超过最大值时,沉积速率反而下降.XRD结果表明,两种方法制备的Co-B纳米合金在镀态下都是非晶态,其结构并不受沉积方法的影响,SEM、STM和AFM观察发现,非晶膜镀层是由纳米相微粒构成微米级的二次颗粒,二次颗粒堆砌形成薄膜.化学沉积得到的颗粒相对电沉积得到的要小一些,两种方法得到的最大颗粒都不超过3 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张淳	湖南师范大学数学与计算机科学学院	8	30	4.0	5.0
2	廖树帜	湖南师范大学物理与信息科学学院	20	50	4.0	6.0
6	张邦维	中国科学院国际材料物理中心	40	216	8.0	12.0
8	何晶	湖南师范大学物理与信息科学学院	5	18	3.0	4.0
9	蒋登辉	湖南师范大学物理与信息科学学院	4	8	1.0	2.0