Al含量对真空电弧沉积ZrAlN薄膜性能的影响

• 作者: 汝强 秦聪祥 胡社军
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: ZrAlN涂层 离子束辅助沉积 电弧离子镀 高速钢片 单晶硅片 性能
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-3,23
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 3025字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2007.03.001

摘要

利用等离子体辅助电弧沉积技术在高速钢片和单晶硅片P(100)上沉积ZrAlN多元薄膜,利用扫描电镜、能谱分析、X射线衍射对薄膜进行了结构和形貌表征,利用显微硬度计、摩擦磨损试验仪对薄膜的性能进行了检测,并研究了铝含量对薄膜组织结构、形貌、显微硬度及耐磨性能等的影响.结果表明:ZrAlN多元薄膜有(111)面的择优取向,随Al含量的增加,(111)衍射峰的位置向小角度偏移,当Al原子分数大于3%时,薄膜中出现AlN相;随着Al含量的增加,薄膜的硬度和耐磨损性能先增加后降低,在Al原子分数为3%时,获最高硬度1570 HV0.5N和最小磨痕宽度93μm,这是薄膜中Al含量不同引起晶体结构变化造成的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	秦聪祥	山东理工大学机械工程学院	17	32	3.0	4.0
2	胡社军	华南师范大学物理与电信工程学院	59	963	16.0	29.0
3	汝强	华南师范大学物理与电信工程学院	27	533	9.0	23.0