不同钝化层对硅基铝金属膜应力影响的研究

• 作者: 付厚奎 吴月花 李志国 李秀宇
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 钝化层 光学相移法 应力
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺技术与材料
• 页码范围: 47-51
• 页数: 5页
• 分类号: TN3
• 字数: 3447字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2007.01.012

摘要

采用光偏振相移干涉原理测量了硅基上不同钝化层下铝膜应力的变化.研究表明:不同的钝化层对铝膜的应力影响不同.SiO2钝化层下的铝膜应力最小,而钝化层为聚酰亚胺的铝膜应力最大.200 ℃下退火4 h后,应力减小明显,且分布趋向均匀.同时采用有限元法对不同钝化层的铝膜进行了应力模拟,模拟结果与实验结果相符.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴月花	北京工业大学电子信息与控制工程学院	7	15	2.0	3.0
2	李志国	北京工业大学电子信息与控制工程学院	57	418	12.0	18.0
3	付厚奎	北京工业大学电子信息与控制工程学院	3	9	2.0	3.0
4	李秀宇	北京工业大学电子信息与控制工程学院	5	8	2.0	2.0