集成电路光刻过程中的ECO技术

• 作者: 史峥 张宏博
• 来源期刊: 机电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 集成电路 反馈修正 光学临近矫正 分辨率增强技术 光刻过程
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 机械设计与制造
• 页码范围: 59-62
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 2916字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4551.2007.12.019

摘要

在现阶段深亚微米化的集成电路产业中,设计与制造已经出现日益严重的脱节,生产加工过程带来的重修正问题使得设计-生产周期大大加长,为了克服这个弊端,随之而来的反馈修正技术(ECO技术)应运而生.以光刻过程中光学临近矫正(OPC)技术所涉及到的反向修正技术为例,介绍了几种目前产业界所主要采用(或即将采用)的方法,并为此提出了几个目前所亟待解决的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史峥	浙江大学电气工程学院	51	176	7.0	11.0
2	张宏博	浙江大学电气工程学院	1	1	1.0	1.0