薄层色谱硅胶粉中有机杂质的去除方法

• 作者: 姜勇 姜德龙 王广靖 迟安政
• 来源期刊: 医学动物防制
• 学科: 医学
• 关键词: 硅胶粉 有机杂质 薄层色谱
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 所属期刊栏目: 论著与专题研究
• 页码范围: 498-499
• 页数: 2页
• 分类号: R113
• 字数: 1444字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6245.2007.07.007

摘要

目的 本文介绍了灼烧去除薄层色谱硅胶粉中有机杂质的方法.结果 将薄层色谱硅胶粉置瓷蒸发皿中,在马福炉中600℃灼烧4～6小时.结论 硅胶粉经高温灼烧处理后,可以完全去除硅胶粉中的有机杂质;硅胶分子内的结构水的得失是可逆的;硅胶结构没有受到破坏而失去吸附活性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜德龙		2	3	1.0	1.0
2	迟安政	烟台市卫生局卫生监督所	1	0	0.0	0.0