脉冲激光沉积法制备ITO薄膜及性质研究

• 作者: 刘宪云 李清山 杨亚军
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 ITO薄膜 透光率 方块电阻
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 激光应用与系统
• 页码范围: 81-82
• 页数: 2页
• 分类号: O4
• 字数: 1259字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2007.01.036

摘要

本文采用脉冲激光沉积法(PLD)制备了ITO导电薄膜,并对其形貌、光学性质和电学性质进行了研究.结果表明,使用PLD方法制备的ITO导电薄膜在可见光区的平均透光率约为80%,方块电阻在100～200Ω/□之间.当衬底温度控制在300℃,氧压控制在1.33Pa时,可以得到具有较高透光率和电导率的ITO导电薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李清山	曲阜师范大学物理工程学院	57	249	9.0	12.0
2	杨亚军	曲阜师范大学物理工程学院	3	20	2.0	3.0
3	刘宪云	曲阜师范大学物理工程学院	4	31	3.0	4.0