掺Al的纳米Si-SiO2复合薄膜的光学非线性特性

• 作者: 杨琳琳 王启明 郭亨群
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米Si 复合薄膜 三阶非线性 时间分辨四波混频
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 640-644
• 页数: 5页
• 分类号: O437
• 字数: 1378字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.05.002

摘要

采用时间分辨四波混频方法,用钛宝石飞秒激光器测量了掺Al的纳米Si-SiO2复合薄膜的光学非线性特性.得到薄膜非共振三阶非线性极化系数为1.0×10-10esu,弛豫时间为60fs.分析认为薄膜的光学非线性增强来源于SiO2镶嵌的纳米Si中电子的量子限制效应,而不是来源于Al杂质,这是因为Al易被氧化,薄膜中没有形成Al团簇.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王启明	中国科学院半导体研究所	118	735	14.0	20.0
2	郭亨群	华侨大学信息科学与工程学院	40	180	8.0	11.0
3	杨琳琳	华侨大学信息科学与工程学院	3	1	1.0	1.0