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5-HIAA在MWNT-Nafion修饰电极上的伏安行为
5-HIAA在MWNT-Nafion修饰电极上的伏安行为
作者:
刘慧宏
刘素芹
戴高鹏
陈雪
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
多壁碳纳米管
修饰电极
5-HIAA
伏安法
摘要:
研究了在磷酸盐缓冲溶液(pH 7.0)中,5-羟基吲哚乙酸(5-HIAA)在MWNT-Nafion修饰电极上的电化学行为.5-HIAA在MWNT-Nafion修饰电极上出现一个灵敏的氧化峰.与裸玻碳电极相比,MWNT-Nafion修饰电极提高5-HIAA的氧化峰电流.优化了各项测定参数,建立了一种直接测定HIAA的电分析方法.富集电位为-0.5 V,富集时间为300 s,氧化峰电流与5-HIAA的浓度在9.95×10-5~7.98×10-3 mol/L之间有良好的线性关系,检出限为2.5×10-6 mol/L.
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篇名
5-HIAA在MWNT-Nafion修饰电极上的伏安行为
来源期刊
分析试验室
学科
化学
关键词
多壁碳纳米管
修饰电极
5-HIAA
伏安法
年,卷(期)
2007,(9)
所属期刊栏目
研究报告与简报
研究方向
页码范围
99-101
页数
3页
分类号
O657.1
字数
2155字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-0720.2007.09.026
五维指标
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修饰电极
5-HIAA
伏安法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
分析试验室
主办单位:
北京有色金属研究总院
中国分析测试协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-0720
CN:
11-2017/TF
开本:
大16开
出版地:
北京新街口外大街2号
邮发代号:
82-431
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
7108
总下载数(次)
13
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