不锈钢管道低温溅射镀TiN薄膜技术

• 作者: 刘祖平 尉伟 张耀锋 朱存宝 王勇 王建平 范乐 蒋道满
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 低温直流溅射 TiN膜 不锈钢真空室 二次电子产额 加速器
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 1381-1384
• 页数: 4页
• 分类号: TB741|TN305.92
• 字数: 2185字
• 语种: 中文

摘要

设计了一套适用于加速器细长管道真空室的低温溅射镀TiN薄膜装置.利用该装置,对86 mm×2 000 mm的不锈钢管道真空室进行溅射镀TiN膜实验,并对镀膜实验结果进行分析,得到了适用于加速器管道真空室内壁溅射镀TiN膜的表面处理参数.样品测试结果表明:在压强为80～90 Pa、基体温度为160～180 ℃的镀膜参数下,不锈钢管道内壁获得的TiN薄膜最佳,薄膜沉积速率为0.145 nm/s.镀膜后真空室的二次电子产额明显降低.