紫外线激发下的新研磨加工

• 作者: 李合庆（译）
• 来源期刊: 磨料磨具通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 研磨加工 紫外线 激发 表面粗糙度 高性能化 精密机械 应力作用 小型化
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 页码范围: 4-7
• 页数: 9页
• 分类号: TG580.68

摘要

随着精密机械的高性能化、小型化的发展，纳米级或原子级别的表面粗糙度的要求开始出现。另外，要求LSI的小型化比现在还要小。可是在半导体片的制造中会产生配线电阻增大，伴随电阻增大而引起电的波动（断开）或由高温时应力作用而产生电的波动（断开）等许多问题。