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摘要:
针对RF-500型CVD镀膜机传统的电气控制缺点,开发了基于PC-PLC的RF-500型CVD镀膜机计算机控制系统.介绍了RF-500型CVD镀膜机的结构以及工作原理;并对该控制系统的硬件结构和软件功能进行了描述.对该控制系统的控制效果进行了大量的实验研究,研究结果表明:基片温度控制精度达到±1℃、工作(反应)气体的流量控制精度达到10mL、可以进行精确的开关量控制.
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文献信息
篇名 RF-500型CVD镀膜机计算机控制系统
来源期刊 工业控制计算机 学科 工学
关键词 CVD镀膜机 温度 气体流量 计算机控制 精度
年,卷(期) 2007,(9) 所属期刊栏目 测控系统
研究方向 页码范围 14-15
页数 2页 分类号 TP3
字数 1894字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-182X.2007.09.006
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王庆 东北大学机械工程与自动化学院 47 245 8.0 13.0
2 徐香坤 沈阳理工大学应用技术学院 13 23 3.0 4.0
3 孔祥玲 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司研发部 6 8 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
CVD镀膜机
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气体流量
计算机控制
精度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
工业控制计算机
月刊
1001-182X
32-1764/TP
大16开
南京市龙蟠路173号江苏省计算技术研究所
28-60
1988
chi
出版文献量(篇)
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60
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46621
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