磁控溅射制备ZnO薄膜及其声表面波特性

• 作者: Santos Paulo V. 杨光
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 X射线衍射 声表面波
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 3515-3520
• 页数: 6页
• 分类号: O46
• 字数: 2603字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.06.079

摘要

通过射频磁控溅射技术在GaAs,Au/GaAs,Si和玻璃基片上成功制备了ZnO多晶薄膜,利用X射线衍射对ZnO薄膜的取向、结晶性进行了表征,结果表明ZnO薄膜呈完全c轴取向,Au缓冲层可以有效地改善ZnO薄膜的晶体质量,X射线摇摆曲线结果表明ZnO(002)衍射峰的半高宽仅为2.41.,同时发现Au缓冲层的结晶质量对ZnO薄膜的c轴取向度有很大影响,通过扫描电子显微镜对ZnO/GaAs和ZnO/Au/GaAs薄膜的表面形貌进行了观测,利用网络分析仪对IDT/ZnO/GaAs薄膜的声表面波特性进行了测量.