壁面特性对径向三重流MOCVD反应器壁面温度分布的影响

• 作者: 刘勇 姚寿广 聂宇宏
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: MOCVD 石英 辐射特性 壁面温度 影响
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 913-917
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.054
• 字数: 3132字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.06.019

摘要

分别采用透明体模型、黑体模型、灰体模型、三谱带漫反射模型、三谱带镜反射模型和二谱带模型对石英壁面的辐射特性进行模拟,并结合求解辐射传递方程的谱带区域法模型,计算了不同壁面特性下径向三重流MOCVD反应器的壁面温度分布.结果表明,不同的壁面特性模型对MOCVD壁面温度的分布有较大影响,其中壁面发射率的影响最大,而透射率的影响较小;在反应器的不同部位,壁面特性模型对温度分布影响的规律不同.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	聂宇宏	江苏科技大学机械与动力工程学院	39	216	8.0	11.0
2	姚寿广	江苏科技大学机械与动力工程学院	88	523	13.0	19.0
3	刘勇	江苏科技大学机械与动力工程学院	11	59	4.0	7.0