半导体质量控制中的非正态工序能力指数计算模型

• 作者: 王少熙 贾新章
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 非正态分布 工序能力指数 切比雪夫-埃尔米特多项式 质量控制
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 227-231
• 页数: 5页
• 分类号: TN405
• 字数: 4044字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.02.017

摘要

分析了目前几种主要的非正态工序能力指数计算模型,指出其适用范围和不足之处.根据数据的均值、标准偏差、偏度和峰度四个变量能够体现分布特性,结合切比雪夫-埃尔米特多项式,提出了新的非正态工序能力指数计算模型,该模型能克服数据偏差大时对计算结果的不良影响,并且其代数计算公式可以简化计算.实例分析结果准确有效.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾新章	西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室	63	572	14.0	20.0
2	王少熙	西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室	8	61	5.0	7.0