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摘要:
采用等离子体浸没离子注入沉积方法,在p型Si衬底上制备了具有整流特性的、非故意掺杂的以及掺氮的ZnO/p-Si异质结.非故意掺杂的ZnO薄膜为n型(电子浓度为1019cm-3数量级),掺氮的ZnO薄膜为高阻(电阻率为105Ω·cm数量级).非故意掺杂的ZnO/p-Si异质结在正向偏压下,当偏压大于0.4V,电流遵循欧姆定律.然而对于掺氮的ZnO/p-Si样品,当偏压小于1.0V时,电流表现为欧姆特性,当偏压大于2.5V时,电流密度与电压的平方成正比的关系.分别用Anderson模型和空间电荷限制电流模型对非故意掺杂和掺氮的ZnO/p-Si异质结二极管的电流输运特性进行了解释.
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文献信息
篇名 ZnO/p-Si异质结构的电学输运特性
来源期刊 半导体学报 学科 物理学
关键词 PIII&D ZnO/p-Si异质结 Anderson模型 空间电荷限制模型 电流输运
年,卷(期) 2007,(z1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 149-152
页数 4页 分类号 O472
字数 2082字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.z1.035
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 萧季驹 香港城市大学物理与材料科学系 7 23 1.0 4.0
2 陈旭东 香港大学物理系 2 1 1.0 1.0
3 凌志聪 香港大学物理系 2 1 1.0 1.0
4 朱剑豪 香港城市大学物理与材料科学系 24 387 9.0 19.0
5 顾启琳 香港大学物理系 1 1 1.0 1.0
6 梅永丰 香港城市大学物理与材料科学系 1 1 1.0 1.0
7 傅劲裕 香港城市大学物理与材料科学系 1 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
PIII&D
ZnO/p-Si异质结
Anderson模型
空间电荷限制模型
电流输运
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
相关基金
香港研究资助局资助项目
英文译名:
官方网址:http://www.ugc.edu.hk/eng/rgc/about/method/operation.htm
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