蓝宝石衬底表面的高精密加工工艺

• 作者: 刘玉岭 檀柏梅 牛新环 赵晓宏
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 蓝宝石衬底 高精密加工 化学机械抛光 碱性抛光液 工艺
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 页码范围: 48-51
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 534字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.z1.011

摘要

为了获得优化的CMP参数变化,对实验进行了设计,并采用CMP方法在C6382I-W/YJ单面抛光机上对蓝宝石衬底表面进行了加工.根据蓝宝石衬底特性,选择了碱性抛光液,并选用SiO2胶体作为磨料.依据高去除的目的,对如底盘转速、抛光液流量、温度及压力等不同工艺参数进行了研究.根据实验结果,确定了蓝宝石衬底表面的CMP最佳工艺参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	檀柏梅	河北工业大学信息工程学院微电子研究所	85	534	13.0	18.0
2	刘玉岭	河北工业大学信息工程学院微电子研究所	263	1540	17.0	22.0
3	牛新环	河北工业大学信息工程学院微电子研究所	69	406	10.0	17.0
4	赵晓宏	河北工业大学信息工程学院微电子研究所	6	84	2.0	6.0