化学镀工艺制备Mn-Zn铁氧体薄膜的结构和57Fe背散射穆斯堡尔谱研究

• 作者: 刘锦宏 孙建荣 李发伸 王学文 王建波
• 来源期刊: 科学通报
• 学科: 工学
• 关键词: Mn-Zn铁氧体 薄膜 背散射穆斯堡尔谱 化学镀
• 年，卷（期）: 2007,（15）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1732-1738
• 页数: 7页
• 分类号: TG1
• 字数: 6628字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0023-074x.2007.15.003

摘要

用水溶液化学镀工艺制备了不同膜厚, 不同Zn含量的Mn1-xZnxFe2O4铁氧体薄膜. XRD衍射图像表明, 通过化学镀工艺制备的薄膜样品呈现单一的尖晶石结构, 是没有杂相和择优取向的多晶Mn-Zn铁氧体薄膜. SEM照片显示结晶良好的柱状晶垂直于玻璃基底生长. 57Fe背散射穆斯堡尔谱的测量表明, 化学镀工艺制得的Mn1-xZnxFe2O4铁氧体纳米晶薄膜的阳离子分布不同于块体材料; 其占据四面体A位的Fe3+离子数目远高于块体材料, 并由此导致薄膜样品的Ms明显地小于相应成分的块体值; 随着Zn含量的增加, Zn2+对于A位表现出强烈的化学亲和性而优先占据A位, 致使Fe3+不断地从四面体A位向八面体B位迁移; 对于Mn0.5Zn0.5Fe2O4的样品, 随着薄膜厚度的增加, B位的Fe3+数目增加, 磁矩不再平行于薄膜平面排列并且磁矩与薄膜平面的夹角逐渐增大. 宏观磁性测量结果表明, 当x = 0.5 时, 用水溶液化学镀工艺制备的Mn1-xZnxFe2O4的饱和磁化强度值最大, 为419.6 kA/m; 而矫顽力则最小, 为3.7 kA/m.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王学文		2	2	1.0	1.0
2	孙建荣		1	1	1.0	1.0
3	刘锦宏		1	1	1.0	1.0
4	王建波		1	1	1.0	1.0