低能Si离子注入对TiN硬质薄膜性能的影响

• 作者: 杜鸿基 陈勇 陶冶
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: TiN膜 离子注入 纳米硬度
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 表面改性技术
• 页码范围: 46-48
• 页数: 3页
• 分类号: TG156.8
• 字数: 2081字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2007.11.012

摘要

采用低能MEVVA离子源技术对由磁过滤阴极真空弧沉积的TiN硬质膜进行了Si离子注入.采用场发射扫描电子显微镜、纳米硬度测试等方法,研究了基体离子注入剂量对薄膜性能的影响.结果表明,Si离子注入能在薄膜表面形成均匀细小的纳米颗粒.使基体及薄膜硬度从33 GPa提高到56 GPa,弹性模量从360 GPa提高到750 GPa.对薄膜进行多(4)次注入,硬度和弹性模量的提高并不显著,但对基体离子注入充分,薄膜的整体硬度和吸收塑性变形能的能力均有显著提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜鸿基	北京航空航天大学材料科学与工程学院	2	8	1.0	2.0
2	陶冶	北京航空航天大学材料科学与工程学院	29	341	11.0	17.0
3	陈勇	北京航空航天大学材料科学与工程学院	13	178	8.0	13.0