氧化铝复合磨粒的抛光特性研究

• 作者: 丘海能 严琼林 卢海参 褚风灵 雷红
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光(CMP) 氧化铝复合磨粒 玻璃基片
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 82-85
• 页数: 4页
• 分类号: TH117
• 字数: 2907字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2007.11.024

摘要

为提高氧化铝磨料分散稳定性,利用接枝聚合对氧化铝粒子进行了表面改性,并研究了改性后氧化铝粒子在数字光盘玻璃基片中的化学机械抛光特性.结果表明,氧化铝复合磨粒的抛光性能与其表面接枝率密切相关.接枝率上升,材料去除速率下降;试验条件下,当接枝率为2.93%时,氧化铝磨粒体现出较高的表面平整性、较低的表面粗糙度及较低的表面损伤.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷红	上海大学纳米中心	22	456	10.0	21.0
2	卢海参	上海大学纳米中心	4	45	4.0	4.0
3	严琼林	上海大学纳米中心	2	17	2.0	2.0
4	褚风灵	上海大学纳米中心	1	12	1.0	1.0
5	丘海能		1	12	1.0	1.0