立体光刻技术制备三维光子晶体

• 作者: 尹海清 张瑞娟 文景 曹文斌
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 立体光刻技术 光子晶体 光子禁带 CAD
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 页码范围: 357-359
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1375字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2007.z1.090

摘要

以三维金刚石结构光子晶体为例,采用立体光刻技术(SLA)进行三维光子晶体的制备研究.微波透射谱测试表明,所制备的光子晶体的禁带分布在12.3～13.4GHz之间,与理论计算值一致,表明立体光刻技术可用于复杂三维光子晶体结构的制备研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹文斌	北京科技大学材料科学与工程学院无机非金属材料系	44	422	12.0	19.0
2	张瑞娟	北京科技大学材料科学与工程学院无机非金属材料系	3	1	1.0	1.0
3	尹海清	北京科技大学材料科学与工程学院粉末冶金研究所	33	280	10.0	15.0
4	文景	北京科技大学材料科学与工程学院无机非金属材料系	3	1	1.0	1.0