电子束蒸发法制备六硼化镧薄膜及其特性研究

• 作者: 时晴暄 李建军 林祖伦 陈泽祥
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: LaB6薄膜 电子束蒸发 真空热电子发射法 逸出功
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 页码范围: 745-747
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2357字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2007.03.004

摘要

用电子束蒸发的方法在Ta衬底上制备了LaB6薄膜,用电子显微镜、X射线光电子能谱仪对样品的表面状况、化学组分进行了分析.采用真空热电子发射法测出了LaB6薄膜的逸出功.结果表明,电子束蒸发的方法能够得到化学成分偏差较小、表面状况较好的LaB6薄膜,其逸出功为2.59 eV,具有良好的电子发射性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林祖伦	电子科技大学光电信息学院	76	442	10.0	15.0
2	陈泽祥	电子科技大学光电信息学院	32	217	9.0	13.0
3	李建军	电子科技大学光电信息学院	6	38	3.0	6.0
4	时晴暄	电子科技大学光电信息学院	3	26	3.0	3.0