三氧化钨纳米薄膜制备与气敏性能的研究

• 作者: 冯有才 尹英哲 胡明 陈鹏
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: WO3纳米薄膜 灵敏度 直流反应磁控溅射 两步热处理
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 生物化学类传感器
• 页码范围: 2361-2363
• 页数: 3页
• 分类号: TP212
• 字数: 2129字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2007.11.001

摘要

讨论一种对二氧化氮具有高灵敏性的WO3纳米薄膜的制备方法.当基片温度为室温,溅射混合气体(O2/Ar)的比例为1:1时,用直流反应磁控溅射法制备的薄膜,经过两步热处理(300℃/600℃),得到纳米结构WO3气敏元件.通过XRD、XPS和SEM对该薄膜的晶体结构和化学成分进行分析,用静态配气法测试NO2气敏特性.在Si3N4基片上制备的这种薄膜对空气中较低浓度的NO2(体积分数为0.1×10-5～3×10-5)具有优异的敏感特性和响应特性,最佳工作温度为150℃,在此温度下对其他一些气体(如CO,C2H5OH,NH3)的敏感性很差,显示出良好的选择性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈鹏	天津大学电子信息工程学院	33	223	8.0	13.0
2	胡明	天津大学电子信息工程学院	139	1336	19.0	28.0
3	冯有才	天津大学电子信息工程学院	8	46	4.0	6.0
4	尹英哲	天津大学电子信息工程学院	8	46	4.0	6.0