旋转喷镀法制备GHz高磁导率NiZn铁氧体膜

• 作者: 冯则坤 刘昌辉 沈翔 龚荣洲
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Zn铁氧体薄膜 旋转喷镀法 复磁导率
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 页码范围: 76-78,94
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2358字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2007.05.022

摘要

用自研设备将加压的反应溶液Fe2+Cl2(+Fe3+Cl3)+NiCl2+ZnCl2和缓冲溶液CH3COONH4以一定流量同时喷镀在90℃转盘上的玻璃衬底上以单质氧为氧化剂生成了厚度1～2 μm的NiZn铁氧体薄膜.X射线衍射数据表明制备的NiZn铁氧体薄膜具有尖晶石结构.氧化液pH值等于8.8时制备的薄膜的组成是Ni0.25Zn0.09Fe2.66O4,有313 kA/m的大的饱和磁化强度和692.5 A/m的低的矫顽力.在0.1 GHz到3.5 GHz频率范围内用Agilent 8722ES矢量网络分析仪通过短路微带线微扰法测量了薄膜的复数磁导率.薄膜的复磁导率的实部μ'r在0.5 GHz为36.1,虚部μ"r在0.8 GHz达最大值55.5.磁导率虚部值在0.5～2 GHz频率范围大于20,制备的薄膜将可以应用于微波频段的电磁干扰抑制器.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龚荣洲	华中科技大学电子科学与技术系	93	817	15.0	24.0
2	冯则坤	华中科技大学电子科学与技术系	109	961	18.0	25.0
3	沈翔	华中科技大学电子科学与技术系	9	50	5.0	7.0
4	刘昌辉	华中科技大学电子科学与技术系	6	20	3.0	4.0