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摘要:
不同条件下,在单晶硅基片上沉积了含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜.原子力显微(AFM)形貌显示,掺N后,薄膜变得致密均匀.傅里叶变换吸收红外光谱(FTIR)表明,随着r(r=N2/[N2+CF4+CH4])的增大薄膜中C-H键的逐渐减少,C=N和C≡N键含量逐渐增加.X射线光电子能谱(XPS)的Cls和Nls峰拟合结果发现,N掺入导致在薄膜中出现β-C3N4和a-CNx(x=1,2,3)成分.Roman散射谱的G峰向高频方向位移和峰值展宽等证明:随着r的增大,薄膜内sp2键态含量增加.
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文献信息
篇名 含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(Ⅳ)氮掺杂对薄膜结构的影响
来源期刊 物理学报 学科 化学
关键词 氟化类金刚石膜 键结构 氮掺杂
年,卷(期) 2007,(5) 所属期刊栏目 物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向 页码范围 3004-3009
页数 6页 分类号 O6
字数 2993字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.05.090
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐慧 中南大学物理科学与技术学院 100 517 10.0 17.0
2 邓超生 中南大学物理科学与技术学院 7 81 6.0 7.0
3 肖剑荣 中南大学物理科学与技术学院 23 103 6.0 8.0
7 王焕友 中南大学材料科学与工程学院 10 84 6.0 9.0
8 李明君 中南大学物理科学与技术学院 6 47 4.0 6.0
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研究主题发展历程
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氟化类金刚石膜
键结构
氮掺杂
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物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
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1933
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