碳纳米管场发射薄膜的研究现状

• 作者: 王蜀霞 耿晓菊 饶早英
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管 薄膜场发射 制备工艺
• 年，卷（期）: 2007,（z2）
• 所属期刊栏目: 纳米合成材料与技术
• 页码范围: 9-11
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 4564字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2007.z2.004

摘要

碳纳米管独特的物理性质、化学稳定性和高机械强度,使其成为电子发射领域最有潜力的场发射阴极材料.分析了目前国内外场发射碳纳米管薄膜的制备技术和应用中存在的问题,并讨论了解决方案.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王蜀霞	重庆大学数理学院应用物理系	26	122	6.0	9.0
2	饶早英	重庆大学数理学院应用物理系	11	39	4.0	5.0
3	耿晓菊	重庆大学数理学院应用物理系	5	40	4.0	5.0