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摘要:
以CF4,CH4和N2为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同功率下制备了含氮氟化类金刚石·膜.用俄歇电子能谱、拉曼光谱、X射线光电子能谱和傅里叶变换红外光谱对薄膜的电子结构和化学键进行了表征,并结合高斯分峰拟合方法分析了薄膜中sp2,sp3结构比率.结果表明,制备的薄膜属于类金刚石结构,不同沉积功率下,薄膜内的sp2/sp3值在2.0-9.0之间,随着沉积功率的增加薄膜内sp2的相对含量增加.膜内主要有c-Fx(x=1,2),C-C,C-C 和 C≡N 等化学键.沉积功率增加,C-C基团增加,膜内F的浓度降低,C-F基团减少,薄膜的关联加强,稳定性提高.
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文献信息
篇名 含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(I)sp结构与化学键分析
来源期刊 物理学报 学科 化学
关键词 含氮氟化类金刚石膜 sp结构 化学键结构 射频功率
年,卷(期) 2007,(3) 所属期刊栏目 物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向 页码范围 1802-1808
页数 7页 分类号 O6
字数 4974字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.03.097
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐慧 中南大学物理科学与技术学院 100 517 10.0 17.0
2 肖剑荣 中南大学物理科学与技术学院 23 103 6.0 8.0
6 王焕友 中南大学材料科学与工程学院 10 84 6.0 9.0
7 郭爱敏 中南大学物理科学与技术学院 8 123 6.0 8.0
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含氮氟化类金刚石膜
sp结构
化学键结构
射频功率
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物理学报
半月刊
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