α-SiN:H薄膜的光学声子与VO2基Mott相变场效应晶体管的红外吸收特性

• 作者: 朱鹏 陈长虹 黄德修
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 红外吸收特性 Mott相变 场效应晶体管 二氧化钒
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 唯象论的经典领域
• 页码范围: 5221-5226
• 页数: 6页
• 分类号: TN3
• 字数: 3624字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.09.037

摘要

从器件构成材料中α-SiN:H,VO2,Al薄膜介电常数弥散特性的Lorentz多谐振模型出发,研究了器件在金属表面等离子体与VO2,特别是α-SiN:H薄膜光学声子共同作用下的红外吸收特性;得到了在不同的光谱范围器件的红外吸收特性随着α-SiN: H钝化层几何厚度的变化关系,与中心工作波长10 μm对应的且经过位相修正以后钝化层的几何厚度为λ/4n时的红外吸收光谱、以及VO2的相变对吸收光谱的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄德修	华中科技大学武汉光电国家实验室	245	1938	20.0	28.0
2	朱鹏	华中科技大学武汉光电国家实验室	45	165	7.0	11.0
3	陈长虹	华中科技大学武汉光电国家实验室	6	124	4.0	6.0