N2分压对ZrN/WN纳米多层膜缺陷性质与力学性能的影响

• 作者: 余大书 宿杰 李德军 杨瑾 王明霞 王立群
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZrN/WN纳米多层膜 缺陷性质 力学性能 慢正电子湮没
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 3435-3439
• 页数: 5页
• 分类号: O46
• 字数: 3647字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.06.064

摘要

利用射频磁控溅射系统在不同N2分压的条件下,制备了一系列ZrN/WN纳米多层膜.借助慢正电子湮没技术分析了样品的缺陷性质,采用纳米压痕仪研究了多层膜的力学性能.结果发现:N2分压为0.4 Pa的多层膜具有最小的空位型缺陷浓度,其中心层和膜基结合层的平均S参数分别为0.4402和0.4641,而较低或较高的N2分压都可能导致空位型缺陷浓度的增加.随着空位型缺陷浓度的减小,多层膜的硬度和临界载荷增大.对于空位型缺陷浓度最小的多层膜,其硬度和临界载荷达到最大值,分别为34.8 GPa和100 mN,说明较低的缺陷浓度有利于提高多层膜的力学件能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王明霞	天津师范大学物理与电子信息学院	15	45	5.0	5.0
2	杨瑾	天津师范大学物理与电子信息学院	14	36	4.0	4.0
3	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
4	宿杰	天津师范大学物理与电子信息学院	8	30	4.0	5.0
5	王立群	天津师范大学物理与电子信息学院	14	46	4.0	6.0
6	余大书	天津师范大学物理与电子信息学院	25	66	4.0	6.0