纳米线阵列及纳米图形制备技术的研究进展

• 作者: 卞亓 林健 雷淑华 黄文旵
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米线阵列 纳米图形 信息技术
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 新材料新技术
• 页码范围: 102-105
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 字数: 4068字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2007.01.025

摘要

当今纳米技术研究的前沿和热点之一是将纳米线按一定方式排列与组装构成纳米线阵列及纳米图形,它们是下一代纳米结构器件设计的材料基础,在激光技术、信息存储及计算技术、生物技术等各领域均有广阔的应用前景.介绍了在纳米线阵列材料制备以及纳米图形制作方面的技术研究进展,详述了模板法、自组装法以及纳米刻蚀法等技术的发展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林健	同济大学材料科学与工程学院	84	582	13.0	20.0
2	黄文旵	同济大学材料科学与工程学院	142	1567	23.0	31.0
3	雷淑华	同济大学材料科学与工程学院	4	11	2.0	3.0
4	卞亓	同济大学材料科学与工程学院	7	13	2.0	3.0