横向外延过生长磷化铟材料的生长速率模型

• 作者: 任晓敏 刘磊 周静 熊德平 王琦 黄永清 黄辉
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 横向外延 生长模型 扩散 生长速率
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 3570-3576
• 页数: 7页
• 分类号: O4
• 字数: 4124字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.06.088

摘要

分别考虑气相扩散和掩膜表面扩散过程,建立了金属有机化学气相沉积条件下横向外延过生长的速率模型.在砷化镓衬底上外延磷化铟条件下,模拟得到了生长速率随掩膜,窗口宽度(m/w)变化的关系.通过讨论掩膜/窗口宽度的影响,说明了掩膜宽度、窗口宽度以及有效掩膜宽度是决定生长速率的关键因素.以上结论与实验结果一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周静	北京邮电大学光通信与光波技术教育部重点实验室	6	19	2.0	4.0
2	任晓敏	北京邮电大学光通信与光波技术教育部重点实验室	189	942	13.0	18.0
3	黄辉	北京邮电大学光通信与光波技术教育部重点实验室	59	282	10.0	12.0
4	王琦	北京邮电大学继续教育学院	82	480	13.0	19.0
5	刘磊	北京邮电大学光通信与光波技术教育部重点实验室	8	48	4.0	6.0
6	熊德平	北京邮电大学光通信与光波技术教育部重点实验室	5	8	2.0	2.0