不同磁场分布在磁控溅射制膜技术中的应用

• 作者: 栾伟玲 涂善东 黄琥
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 薄膜 磁场分布
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 48-51
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 4048字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2007.07.013

摘要

介绍了用于制备薄膜材料的磁控溅射技术,总结了以改变磁场分布方式而得到的各类新型磁控溅射方式,如非平衡磁场(扩散性、内敛性、闭合场),扫描磁场,强度可变磁场,在基片、靶面或其他部位外加的磁场,高强度磁场等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	涂善东	华东理工大学机械与动力工程学院	224	2191	25.0	36.0
2	栾伟玲	华东理工大学机械与动力工程学院	29	395	7.0	19.0
3	黄琥	华东理工大学机械与动力工程学院	5	74	4.0	5.0