分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜折射率及厚度的测试

• 作者: 井上正崇 佐佐诚彦 小池一步 尾形健一 延凤平 李一凡 王琳 矢野满明 简水生 郑凯 龚桃荣
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: ZnMgO薄膜 偏振光椭圆率测量仪 折射率 分子束外延(MBE)
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 4127-4131
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 3573字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.07.081

摘要

利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.