含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(Ⅱ)射频功率对薄膜光学带隙的影响

• 作者: 徐慧 王焕友 肖剑荣 郭爱敏
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 含氮氟化类金刚石薄膜 射频功率 光学带隙
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 1809-1814
• 页数: 6页
• 分类号: O6
• 字数: 4798字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.03.098

摘要

以CF4,CH4和N2为源气体,采用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同射频功率下制备了含氮氟化类金刚石薄膜样品.原子力显微形貌显示,低功率下沉积样品表面致密均匀.拉曼及傅里叶变换红外光谱分析显示,随着射频功率的改变,薄膜的结构和组分也随之变化.紫外-可见光透射光谱证明薄膜具有紫外强吸收特性,通过计算得到其光学带隙在1.89-2.29 eV之间.结果表明,射频功率增加,薄膜内sp2C含量增加,或者说C(＝)C交联相对浓度增加、F的相对浓度降低,导致薄膜内π-π*带边态密度增大,光学带隙的减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐慧	中南大学物理科学与技术学院	100	517	10.0	17.0
2	肖剑荣	中南大学物理科学与技术学院	23	103	6.0	8.0
6	王焕友	中南大学材料科学与工程学院	10	84	6.0	9.0
7	郭爱敏	中南大学物理科学与技术学院	8	123	6.0	8.0