沉积氧气压力对纳米晶硅光致发光的影响

• 作者: 李常青 杨柳 罗明学
• 来源期刊: 科技与创新
• 关键词: 纳米晶硅 光致发光 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2007,（29）
• 所属期刊栏目: 电子设计
• 页码范围: 252-253
• 页数: 2页
• 分类号: TN304.1|TN383
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-0570.2007.29.103

摘要

用脉冲激光(Nd:YAG激光)沉积技术在硅基上沉积富硅SiO2薄膜(SiOx,x＜2),沉积时氧气压力分别为1.33,2.66,3.99,5.32,6.65,7.98Pa,膜的厚度约为300nm.随后,在氩(Ar)气中1000℃的温度下对沉积的SiOx薄膜进行热退火处理30min,使在SiO2薄膜中生长出硅纳米晶.用光谱分析仪分析其在室温下的光致发光(PL)光谱时发现,随着沉积氧气压力的增强,峰值波长在减小(即蓝移),表明纳米晶硅颗粒在减小;同时,在本研究中的制作条件下,PL强度与沉积氧气压力有较强的依存关系,在2.66-3.99Pa的氧气压力条件下沉积制作的试样,得到最大的PL强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨柳	郑州大学信息工程学院	47	158	7.0	11.0
2	李常青	郑州大学信息工程学院	17	83	4.0	9.0
3	罗明学	郑州大学信息工程学院	1	0	0.0	0.0