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摘要:
采用基于密度泛函的平面赝势方法(PWP)和广义梯度近似(GGA),计算了未掺杂和掺杂稀土(Y,La)的γ-Si3N4中N-Y(La)键的布居值和它们的键长、掺杂后能带结构和态密度.发现掺杂后的带隙要减小,并且可能形成新的半导体,这将为找到新的半导体提供一个方向.还进一步研究了掺杂稀土(Y,La)后的光学性质,掺杂后有更高的静态介电常数,可以作为新的介电材料和好的折射材料,这对于一定的光学元件有潜在的应用前景.
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文献信息
篇名 掺稀土元素(Y,La)的γ-Si3N4的电子结构和光学性质
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 γ-Si3N4 掺杂 电子结构 光学性质
年,卷(期) 2007,(10) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 5996-6002
页数 7页 分类号 O4
字数 4730字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.10.074
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 向安平 成都信息工程学院光电技术系 48 146 7.0 9.0
2 徐明 四川师范大学物理与电子工程学院固体物理研究所 17 78 6.0 8.0
4 祝文军 四川师范大学物理与电子工程学院固体物理研究所 30 189 8.0 12.0
8 丁迎春 成都信息工程学院光电技术系 4 20 2.0 4.0
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节点文献
γ-Si3N4
掺杂
电子结构
光学性质
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
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